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GSL-1100X-PJF-(A)等離子表面處理儀是一種緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成，噴射的離子束流能在較低的溫度和非真空條件下活化和清理材料表面（例如單晶片、光學(xué)元件、塑料等），且清理速度迅速，清理后的物品表面干凈。使材料進(jìn)行預(yù)先表面處理，為獲得高質(zhì)量的外延薄膜或使光學(xué)涂層得到顯著的效果做準(zhǔn)備工作。
PCE-6小型等離子清洗機(jī)的等離子腔體為 Φ160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率3.0MHz（ 1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機(jī)主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。
PCE-8等離子清洗機(jī)是一款較大型的清洗機(jī)，等離子腔體為 Φ8.5 “×12“的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。本機(jī)主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。
產(chǎn)品簡介：PCE-6V小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物，清洗程度可達(dá)到分子級。樣品臺可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)對樣品的離子蝕刻。此外，其可在特定條件下
PCE-6小型等離子清洗機(jī)的等離子腔體為 Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率為3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機(jī)主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。
產(chǎn)品簡介：轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)，專為處理顆粒、粉末樣品而設(shè)計(jì)。在等離子體作用下，一些材料很容易發(fā)生斷鍵和聚合，轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)可以高效率的處理微細(xì)的甚至分子級別的超細(xì)粉末材料，改變了傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無法處理顆粒、粉末樣品的問題。該機(jī)同樣也可以處理非粉末的樣品，實(shí)現(xiàn)了一機(jī)多用的功能。
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